工业膜阻垢剂T-N195 SiO2水垢抑制

产品介绍:

概要  
KURITA T-N195是一种栗田工业针对RO系统中二氧化硅垢研发的阻垢剂。RO膜的水垢原因太多为二氧化硅以及二氧化硅+铝所形成的物质。如果RO膜供水中二氧化硅高的话，很难提高回收率，且设备一直处于一种不良的运转状态。市场上大多数的二氧化硅类水垢剂的抑制效果并不十分理想，而KURITA T-N195能够达到一种很好效果。

特征
1 因为能抑制二氧化硅水垢的生成和成长，所以可以提高回收率。
2 因为能抑制水垢的附着，所以可以降低清洗频度。

物理特性
外观  淡黄色-褐色液体
PH 2.0以下（20℃）
比重 1.10-1.20（20℃）

使用方法
连续对RO供水进行加药，一般添加浓度1-5mg/L。
添加方式及添加量由现场工艺和水质不同而定，可由栗田工业药剂添加软件KIRABI计算获得。
具体请咨询栗田工业工程师
包装均为标准液

操作与储存
·操作时请穿防护服，戴手套，护目镜，面罩等。不要直接接触药品。
·避免药液接触皮肤，眼镜，口，鼻，若不慎触及上述部位时，请立即以清水冲净。
·请储存于阴凉，干燥处，不用时，要拧紧盖子。
·在使用本产品之前，请参阅商品安全技术表。

包装
20KG塑料桶装

备注
·KURITA T-N195正在申请通过NSF/ANSI STANDARD 60标准认证，预计将在不远的将来能够应用于饮用水涉及行业，可安全使用于饮用水制造行业，饮料行业，食品行业等。